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快速加熱高溫真空爐HTFF1_快加熱真空高溫爐提供高達1500℃的材料熱處理溫度-輔光儀器
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快速加熱高溫真空爐

快速加熱高溫真空爐HTFF1能夠對樣品快速加熱,精準控制氣體環境,是材料科學研究的快加熱真空高溫爐,它提供高達1500℃的材料熱處理溫度,并能將微小樣品插入到恒溫加熱區快速加熱,材料研究實驗周期可以有效縮短。
型號:
FPTVU-HTFF1
品牌:
輔光
價格:
¥0.00
類別:
在線客服郵箱 [email protected] 服務熱線 021-5130 0728 您也可網站留言或在線客服留言垂詢,輔光儀器-規模型進口精密科學儀器供應商歡迎您!

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快速加熱高溫真空爐HTFF1能夠對樣品快速加熱,精準控制氣體環境,是材料科學研究的快加熱真空高溫爐,它提供高達1500℃的材料熱處理溫度,并能將微小樣品插入到恒溫加熱區快速加熱,材料研究實驗周期可以有效縮短。
快速加熱高溫真空爐HTFF1具有石墨或氧化鋁可移動棒樣品保持器,可用于在各種氣體環境下操作以控制樣品環境。
快速加熱高溫真空爐HTFF1樣品棒中心可快速加熱至900℃,穩定在在10%溫度范圍內。并且可提供在2分鐘內虧啊蘇加熱到1200攝氏度,然后將溫度降至900°C的模式
快速加熱高溫真空爐HTFF1采用同心套絕緣氧化鋁/氧化硅管包含軸向取向的碳化硅硅碳棒發熱。端部支撐法蘭在較高的工作溫度下水冷。氧化鋁工藝室為客戶提供潔凈、干燥、可控的大氣環境。穩定,可編程溫度控制,可提供手動或自動系統。
其他尺寸可供選擇。
快速加熱高溫真空爐
快速加熱高溫真空爐HTFF1規格
Physical Characteristics:
整體尺寸(不含真空/氣體配置) 18"Long x 9" Wide x 10.5" High
標稱熱稱長 12 cm
樣品杠直徑 石墨或氧化鋁,1.25厘米
熱區域直徑 2.5 cm ID Alumina Tube
加熱元件 SiC 電阻
電源 240 VAC/40A Phase Control SCR
配置 Parker/Quick Flange/NPT
11 kg
 
操作特性
溫度控制 標準PID自動化控制
2000°C能 約 3.5kW
操作壓 1 atm.
工作(氣體)條件 惰性氣體或者真空
冷卻 水冷端蓋
熱區最高運行溫度 2000°C +
中心點溫度(+/- 1 cm) C型熱電偶的精度在1°C以內。
快速加熱高溫真空爐優點
所有的電阻加熱爐需要時間加熱,從根本上限制樣品的加熱速率。TvU的快速爐插入樣品已經成為一個熱爐,實現最大可能的加熱速度。只有輻射爐或燃燒爐才能提供有競爭力的加熱速率。

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